新製品 RFイオンソース OIS-Fourをリリース

2007年9月20日
当社新製品のRFイオンソースOIS-Fourをリリースいたしました。
OIS-Fourはイオンビームアシスト蒸着(IAD)向けに最適化した自社開発の小型かつ高性能なRFイオンソースです。
グリッド口径10cmと小口径ながら高電流密度・均一性を考慮した設計で、弊社光学薄膜形成装置OTFC-600、OTFC-900に適用します。

これにより各種光学フィルタの試作・中規模生産、研究開発用途に最適で、ハイレートでの真空蒸着および基板クリーニングにも適しています。

お客様の既存の装置への取り付けについても検討受け賜ります。

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