第4次光弛用户交流会邀请函

第4次光弛用户交流会邀请函
「光学簿膜技术研讨会」

尊敬的客户，您好！
这些年来，在众多客户的支持与帮助下，我公司得以不断发展，并渐渐巩固了我们在国内外市场上的地位。在此，请让我向各位客户与朋友表示衷心的感谢。
值此我公司成立7周年之际，伴随东京 [VACUUM2006真空展]的举行，我公司将在东京BAY ARIAKE WASHINGTON HOTEL举行第4次光弛用户交流活动，届时将邀请长冈技术科学大学工学部教授 斋藤秀俊先生及日本电子公司电子光学机器应用研究组 铃木俊明先生与会进行光学簿膜技术演讲。
在此，特致函冒昧地恭请您出席此次交流会。您若能光临此次会议，我们将不胜荣幸。百忙之中若有打扰，敬请原谅。
最后，让我诚挚地祝福贵公司业务兴隆，蒸蒸日上。

此致
敬礼

2005年8月1日
株式会社 光弛
代表取缔役社长 孙 大雄

附：
第4次光弛用户交流会日程表

日 期	2006年9月14日（星期四）
演 讲	下午1时至下午5时30分
冷餐会	下午5时30分至7时
地 址	东京BAY ARIAKE WASHINGTON HOTEL3楼 IRIS 房间
演讲题目一	薄膜评价基础中的基础 –密度评价和周边] 讲师: 工学博士 斋藤秀俊 (长冈技术科学大学工学部教授)
演讲题目二	[最新断面及薄膜新试料制作装置的介绍] 讲师: 铃木俊明 (日本电子)