RF Ion Source
RFイオンソース
OIS-One
装置概要 応 用
OIS-Oneはオプトランがイオンビームアシスト蒸着（I AD）向けに最適化した自社開発の高性能RFイオンソースです。ハイレートでの真空蒸着および基板クリーニングに適しています。オプトランの光学薄膜形成装置OTFC-1100、OTFC-1300に搭載することにより各種光学フィルタの中規模生産に最適です。
特 徴
- フィラメント等の消耗品を使用する一般的なイオンソースと比較し、長寿命かつコンタミが少ない
- イオン分布の均一性が高く大電流かつφ1150ｍｍ以上の広範囲を照射可能
- 動作の安定性が高く長時間運転が可能
OIS-One仕様
| イオンソース仕様 | |
|---|---|
| 寸法 | φ300mm×150mm(H) |
| グリッドサイズ | φ17cm（モリブデン製ディッシュ型グリッド3枚） |
| ビーム電圧 | 100V～1500V |
| ビーム電流 | 1000mA(max） |
| Acc電圧 | 100V～1000V |
| RFパワー | 600W(max） |
| ガス流量 | 20sccm～50sccm（アルゴン） 40sccm～100sccm（酸素） |
| 使用圧力 | 5×10-2Pa |
| 水冷方式 | RFコイルおよび本体 |
| ニュートライザー仕様 | |
| 寸法 | φ6cm×8cm |
| エミッション電流 | 1500mA(max） |
| RFパワー | 150W(max） |
| ガス流量 | 5sccm～10sccm（アルゴンのみ） |
