Continuous Optical Thin Film Coater
連続光学薄膜形成装置
COFC-1100D
概要
本装置は加熱補助室１、蒸着室、加熱補助室２を備えた３真空室式 連続光学多層膜真空蒸着装置です。成膜時に真空室の真空を破壊せ ず連続的に基板ドームを投入し、全自動で多層膜の大量生産ができます。
特徴
- 9 点式高精度反射式光学モニタで光学膜厚を制御
- 大型ハースを搭載し多層光学薄膜の連続成膜を実現
- 反射防止膜に最適
- 自動蒸着制御システムによるプロセスの自動化
仕様
| 真空チャンバ | SUS304, φ1100mm × 1345mm (D) × 1315mm (H) |
| 基板ドーム | φ950mm |
| 基板ドーム 回転速度 |
2rpm to 15rpm |
| 蒸発源 | 電子銃 |
| 性能 | |
|---|---|
| 到達圧力 | 9 × 10-5Pa 以下 |
| 蒸着室あら引き 廃棄時間 |
15 分以内（大気圧～ 10Pa まで） |
| 基板ドーム 回転速度 |
＜ 1 分（～ 3.0 × 10-3Pa） |
| 所要諸元 | |
| 所要電力 | 3 相, 200V, 50/60Hz, 約140kVA |
| 所要流量 | 150L / 分 |
| 重量 | 約17000kg |
