Opthical Thin Film Coater for mass prodution
光学薄膜形成装置
Gener-1300
装置概要
本装置は反射防止膜を大量生産するために設計製作された光学薄膜形成装置です。
特 長
- ドーム回転は磁気シール駆動による中心回転方式で安定且つ均一な膜分布が得られます。
- 排気特性および昇温能力が向上し成膜タクトタイムが短縮
- 高精度AR対応のため多層膜用として高い実績がある光学モニタシステムをオプションで搭載可能
Gener-1300仕様例
| 真空チャンバ | SUS304,φ1300mm×1500mm(H) |
| 基板ドーム | 4分割式ドーム(又は約φ1200ｍｍ) |
| 基板ドーム回転速度 | max 30rpm (可変) |
| 水晶式膜厚計 | XTC/3+6点ロータリーセンサ |
| 蒸発源 | 電子銃1基 |
| イオンソース | DCイオンソース |
| 性能 | |
|---|---|
| 到達圧力 | 7.0×10-5Pa以下 |
| 排気時間 | 10分（大気圧～1.3×10-3Paまで) |
| 基板ヒータ温度 | max350℃ |
| 所要諸元 | |
| 設置寸法 | 約4500mm(W)×6000mm(D)×3200mm(H) |
| 所要電力 | 3相,200V,50/60Hz,約80KVA |
| 所要流量 | 100リットル/分以上 |
| 所要空気圧 | 0.5～0.7MPa以上 |
| 重量 | 約5000kg |
