Optical Thin Film Coater for coating on plastic subsutrates
プラスチック基板用成膜装置
OTFC-L
装置概要
光学薄膜形成装置OTFC-Lシリーズはプラスチック基板対応可能に新規設計されています。
また、弊社独自の薄膜形成技術を用い、従来可能であるガラス基板以外にPMMA、ポリカーボネート、その他、高機能プラスチック基板へ精密な多層光学薄膜を成膜する全自動制御光学薄膜成膜装置です。
特徴
- プラスチック基板に最適な装置設計。
- 特殊な成膜プロセスによりプラスチック基板上への高品質な光学薄膜の生産が可能。
- 厳しい環境試験をクリア。
- 自動制御システムにより成膜が自動化。
基本仕様
| 真空チャンバ | OTFC-900： 900mm（Ф）×1290mm(H) OTFC-1100： 1100mm（Ф）×1450mm(H) OTFC-1300： 1300mm（Ф）×1610mm(H) |
| 膜厚制御 |
光学膜厚計、水晶膜厚計（レート制御） |
| 蒸発源 | 電子銃 |
| 真空到達圧力 | 7.0×10‐5 Pa 以下 |
| 真空排気時間 | 15分以下(大気圧～2.0×10‐3 Paまで) |
環境試験実績
サンプル： PMMA基板にAR膜
試験項目：
| 高温試験 | 85℃ 168時間 |
| 低温試験 | -45℃ 168時間 |
| ヒートサイクル試験 | -45℃ ⇔ 85℃,保持時間30分, 50サイクル |
| 高温高湿試験 | 85℃,85%Rh, 48時間 |
以上の環境試験完了後、テープテストを行い、顕微鏡（×100）で膜のクラック、膜剥離のない事を確認しました。
