成膜装置

Optical Thin Film Coater

光学薄膜形成装置

OTFC-1100

仕様例

モデル名 OTFC-1100CBI/DBI
真空チャンバ SUS304,φ1100mm×1520mm(H)
基板ドーム φ950mm
基板ドーム回転速度 10rpm to 50rpm(可変)
光学膜厚制御システム HOM2-R-VIS350A型光学モニタ
波長範囲:350nm to 1100nm
反射式/透過式
水晶式膜厚計 XTC/3+6点ロータリーセンサ
蒸発源 電子銃2基
イオンソース 17cmRFイオンソース
排気システム あらびきポンプ+拡散ポンプ2基+ポリコールド あるいはクライオポンプ2基+スーパートラップ
性能
到達圧力 7.0×10-5Pa以下
排気時間 20分(大気圧~1.3×10-3Paまで)
基板ヒータ温度 最高:350℃
所要諸元
設置寸法 約5000mm(W)×6000mm(D)×3300mm(H)
所要電力 3相,200V,50/60Hz,約100KVA
所要流量 120リットル/分以上
所要空気圧 0.5MPa以上
重量 約8500kg