成膜工艺

合适的薄膜沉积工艺是提高膜层质量和生产能力所不可缺少的条件。光驰公司从薄膜工艺的角度出发已开发出了一系列的光学薄膜成膜装置。

真空镀膜

真空镀膜是指在真空中加热镀膜材料使其蒸发(气化)、附着在基板表面形成薄膜的方法。由于真空排除了不纯物、能夠形成致密的薄膜。

蒸发方式成膜是一种可靠的和适应性很强方法。该方法可以使用多样的金属半导体和电介质成膜材料。

利用热蒸发或者电子束蒸发源、可以得到高的镀膜速率和优质的膜厚分布。

离子辅助镀膜

离子辅助镀膜(IAD:Ion Assisted Deposition)是在蒸发过程中采用离子枪以一定动能的离子流轰击基板、其目的是改善膜层结构、提高致密性和附着力、从而提高成膜质量。

这种成膜方法制成的滤光片的吸收损失非常小而且膜应力也比使用其他的等离子方法小。利用离子辅助镀膜能获得无可比拟的生产性和薄膜特性。

本公司的SPOC系列超多层光学薄膜形成装置和OTFC系列光学薄膜形成装置都使用离子辅助镀膜方法。SPOC系列用于生产光通信各类超宽带截止膜和超窄带滤光片;OTFC系列用于生产机能膜中的光学多层膜。机能膜除了光学薄膜外、还有很多与能源相关、信息相关的膜类、本公司正致力于这些领域的技术研究。

低温溅射

以往的成膜技术通常是热镀、即基板在镀膜前需加热处理、因此基板须使用耐热性很好的玻璃。这对于在耐热性差的树脂或 柔软材料上成膜非常不利。本公司已成功开发出适于低温成膜的FTS溅射成膜装置。