产品系列ALDER 等离子体原子层沉积镀膜设备
能够在立体形状上形成均匀性良好的薄膜,实现了传统成膜技术无法达到的光学特性的装置
特征
- 可见光波段反射率低于0.1%的超低反射率镀膜
- 适用于陡峭立体结构表面的自适应镀膜
- 适用于大曲率透镜双面的广入射角镀膜
- 适用于塑料基底的低温等离子体层镀膜技术
- 能实现无鬼影无眩光的真实而清晰的高品质图像
应用领域
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手机
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LED
规格
| A800PBS | A1000PC | |
| 真空室 | W880mm×D1100mm×H1700mm | W900mm×D900mm×H1150mm |
| 成膜BOX | W360mm×D900mm×H360mm | W374mm×D700mm×H800mm |
| 旋转式基板夹具 | φ300夹具×25段、30rpm | φ350夹具×40段、30rpm |
| 等离子源 | ICP(电感耦合等离子体) | |
| 前驱体供给源 | 前驱体容器、ALD阀、 前驱体(TMA、3DMAS、TiCI4及其他) |
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| 排气系统 | 干泵 | |