产品Products 按产品搜索 按申请字段搜索 蒸镀设备？ 溅射设备・Cluster设备？ 原子层沉积镀膜设备？ 蚀刻设备？ GCIB？ 离子源 光学膜厚监控仪 蒸镀设备 该装置采用离子束辅助沉积法。离子束辅助沉积法是一种薄膜沉积方法，它利用离子枪轰击基底，从而提高薄膜的附着力和质量。离子枪发射的离子具有动能，并以高速撞击基底的薄膜表面。这使得制备具有高密度和其他优良特性的高质量薄膜成为可能。 溅射设备 该方法包括加速离子轰击靶材，将靶材上的薄膜材料喷射出来，然后将喷射出的材料沉积到基底上。旋转圆柱形靶系统能够实现长时间内稳定的薄膜沉积，并保持沉积速率和分布的一致性。 原子层沉积镀膜设备 这项技术能够通过在原子层尺度上控制薄膜厚度，形成平整致密的薄膜。它能够在各种基底上涂覆均匀薄膜，从硅晶片等平面基底到具有高纵横比的三维结构均可适用。 蚀刻设备 干法刻蚀是实现亚微米至纳米尺度微加工的关键工艺，广泛应用于各种器件的制造过程中。与湿法刻蚀相比，干法刻蚀在纳米尺度微加工方面更具优势，且无需废水处理，从而降低了对环境的影响，使其成为一项有助于实现可持续发展目标的技术。 GCIB 这项技术涉及将数千个气体原子电离成团簇，加速这些团簇，然后加以利用。它能够实现超平面加工，例如原子级表面平滑和表面改性。 蒸镀设备 OTFC 离子源辅助蒸镀设备 COFC 连续式光学薄膜成膜设备 Gener 离子源辅助蒸镀设备 SDARP 离子源辅助蒸镀设备 SPOC 超多层超窄带蒸镀设备 OWLE 直入性蒸镀设备 HOTF 离子源辅助蒸镀设备 RPD 反应等离子体蒸镀设备 溅射设备 NSC 光学薄膜用溅射设备 OWLS 半导体光学用溅射设备 DSC 光学薄膜用溅射设备 OAS 溅射设备 Cluster设备 OCSS 多腔室集群式溅射设备 原子层沉积镀膜设备 ALDER 等离子体原子层沉积镀膜设备 蚀刻设备 DES 干法蚀刻设备 气体簇修整设备 OGCT 气体簇离子修整设备 离子源 OIS 离子源 光学膜厚监控仪 HOM・DHOM 光学膜厚监控仪 手机 汽车 医疗器械 光通信 LED 安防摄像头 头戴式显示器 电子设备通信设备（BAW/SAW） 半导体 防反射膜 OTFC 离子源辅助蒸镀设备 COFC 连续式光学薄膜成膜设备 Gener 离子源辅助蒸镀设备 HOTF 离子源辅助蒸镀设备 NSC 光学薄膜用溅射设备 OWLS 半导体光学用溅射设备 ALDER 等离子体原子层沉积镀膜设备 红外截止滤光片 OTFC 离子源辅助蒸镀设备 Gener 离子源辅助蒸镀设备 OWLE 直入性蒸镀设备 HOTF 离子源辅助蒸镀设备 OWLS 半导体光学用溅射设备 防污膜 OTFC 离子源辅助蒸镀设备 Gener 离子源辅助蒸镀设备 HOTF 离子源辅助蒸镀设备 NSC 光学薄膜用溅射设备 装饰膜 OTFC 离子源辅助蒸镀设备 Gener 离子源辅助蒸镀设备 HOTF 离子源辅助蒸镀设备 NSC 光学薄膜用溅射设备 OWLS 半导体光学用溅射设备 硬膜 OTFC 离子源辅助蒸镀设备 NSC 光学薄膜用溅射设备 防反射膜 OTFC 离子源辅助蒸镀设备 Gener 离子源辅助蒸镀设备 HOTF 离子源辅助蒸镀设备 NSC 光学薄膜用溅射设备 DSC 光学薄膜用溅射设备 防污膜 OTFC 离子源辅助蒸镀设备 Gener 离子源辅助蒸镀设备 HOTF 离子源辅助蒸镀设备 NSC 光学薄膜用溅射设备 DSC 光学薄膜用溅射设备 防污膜 OTFC 离子源辅助蒸镀设备 SPOC 超多层超窄带蒸镀设备 增强型反射涂层 OTFC 离子源辅助蒸镀设备 透明导电膜(ITO) RPD 反应等离子体蒸镀设备 压电薄膜 RPD 反应等离子体蒸镀设备 防反射膜 OTFC 离子源辅助蒸镀设备 Gener 离子源辅助蒸镀设备 HOTF 离子源辅助蒸镀设备 红外截止滤光片 OTFC 离子源辅助蒸镀设备 Gener 离子源辅助蒸镀设备 HOTF 离子源辅助蒸镀设备 防反射膜 OTFC 离子源辅助蒸镀设备 Gener 离子源辅助蒸镀设备 OWLE 直入性蒸镀设备 HOTF 离子源辅助蒸镀设备 防污膜 OTFC 离子源辅助蒸镀设备 Gener 离子源辅助蒸镀设备 HOTF 离子源辅助蒸镀设备 手机 防反射膜 红外截止滤光片 防污膜 装饰膜 硬膜 汽车 防反射膜 防污膜 医疗器械 OTFC 离子源辅助蒸镀设备 光通信 带通滤波器 LED 增强型反射涂层 透明导电膜(ITO) 压电薄膜 安防摄像头 防反射膜 红外截止滤光片 头戴式显示器/智能眼镜 防反射膜 防污膜 电子设备（通信设备（BAW/SAW）） OWLE 直入性蒸镀设备 OAS 溅射设备 OGCT 气体簇离子修整设备 OCSS 多腔室集群式溅射设备 半导体 DES 干法蚀刻设备 OGCT 气体簇离子修整设备
