产品系列
OWLS　半导体光学用溅射设备

适用于半导体光学领域的水平式金属模式溅射镀膜装置。
最大可处理12英寸晶圆，支持双面同步镀膜及低温镀膜工艺。

特征

  • 适用于12、10、8、6、4英寸晶圆
  • 真空晶圆搬运机械手快速清洁的转移系统
  • 最多可搭载3个双旋转圆柱阴极
  • 通过高反应性等离子体源实现低吸收膜
  • 可选配光学膜厚计等组件 其他模块，例如光学厚度监控仪（可选）
  • 兼容半导体工艺晶圆搬运模块EFEM及SEMI标准
OWLS 金属模式溅射设备

应用领域

  • 手机（ディスプレイ）

    手机

  • LED

    LED

规格

OWLS-1800 OWLS-3000
真空腔体 LL室 TR室 PR室 LL室 PR室
基板夹具 10枚（最大12英寸） 最大φ180×L500
旋转滚筒系统 φ1800转盘式
公转：10rpm～60rpm		 主轴式
反应源 ICP（电感耦合等离子体）
溅射源 双旋转阴极，旋转式
排气系统 粗抽泵，分子泵，冷阱
成膜方向 水平、上向沉积、下向沉积
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