产品系列OCSS 多腔室集群式溅射设备
OSCC-8000 是一款集群式溅射/蚀刻系统。它支持直径达 φ200 毫米的晶圆，最多可容纳五个工艺腔室，并且针对 BAW/SAW 滤波器和功率器件背电极的薄膜沉积进行了优化设计。
特征
- TC腔室可配备对准器和冷却台。
- 可安装软蚀刻腔室。
- 薄膜沉积腔室可安装射频偏置机构和衬底加热机构。
- 可安装ESC以支持晶圆减薄。
应用领域
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电子设备
（通信设备（BAW/SAW））