製品紹介

高性能かつ生産性に優れたロードロック式半導体光学用成膜装置です。

特長

  • カソードと他のコンポーネントの置換可能
  • 高反応性プラズマ源による低吸収膜
  • 成膜システム・搬送系の最適化により低パーティクルを実現
NSC 光学膜用スパッタ成膜装置

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NSC-15 NSC-2350 NSC-2500
真空チャンバ LL室:W500mm×D800mm×H2890mm
PR室:φ1650mm×H1200mm
LL室:W700mm×D1860mm×H1760mm
UL室:W700mm×D1860mm×H1760mm
搬送室:W660mm×D1860mm×H1760mm
PR室:φ2350mm×H1950mm
LL室:φ2950×H2250mm
PR室:φ2500mm×H2250mm
基板ホルダ 13枚~22枚選択可能 15枚~22枚選択可能 12枚
基板回転機構 φ1500mm ドラム式、10rpm~100rpm(可変) φ2245mm ドラム式、10rpm~50rpm(可変) φ2250mm、10rpm~50rpm(可変)
反応源 ICP(誘導結合プラズマ)
スパッタ源 デュアルカソード、ロータリ式