製品紹介OIS イオンソース
当社がイオンアシスト蒸着向けに最適化した自社開発の高性能RFイオンソース。
ハイレートでの真空蒸着及び基板クリーニングに適しています。
特長
- フィラメント等の消耗品を使用する一般的なイオンソースと比較し、長寿命かつコンタミが少ない
- 動作の安定性が高く、長時間運転が可能
- イオン分布の均一性が高く大電流かつ広範囲への照射が可能
仕様
| OIS-Two/ OIS-Two Plus |
OIS-Three/ OIS-Three Plus |
OIS-Four | OIS-GL | |
| 寸法 | φ300mm×H150mm | φ390mm×H215mm | φ224mm×H143mm | φ163mm×H200mm |
| グリッドサイズ | φ17㎝ | φ23cm／26cm | φ10cm | グリッドレス |
| ビーム電圧 | 100V～1500V | 50V～350V | ||
| ビーム電流（max） | 1200mA | 1800mA/2400mA | 500mA | OIS-GL |
| Acc 電圧 | 100V～1000V | - | ||
| RFパワー(MAX) | 750W/1000W | 2000W | 600W | - |
| ガス流量 | 20sccm～30sccm(アルゴン) 40sccm～60sccm(酸素) |
10sccm～20sccm(アルゴン) 25sccm～35sccm(酸素) |
5sccm～50sccm(アルゴン) 10sccm～100sccm(酸素) |
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| 使用圧力 | 5×10⁻²Pa | 5×10⁻²Pa | 5×10⁻²Pa以下 | 3.5×10⁻²Pa以下 |