製品紹介

OWLS半導体光学に向け、新たに開発した水平型メタルモード・スパッタ成膜装置です。最大12インチのウェハーに対応し、両面同時成膜や低温成膜にも対応可能です。

特長

  • 12、10、8、6、4インチ ウェハーに対応
  • 真空ロボットによる高速かつクリーンな基板搬送
  • 最大3つのデュアル回転円筒型カソードを搭載
  • 高反応性プラズマ源による低吸収膜を実現
  • オプションで光学膜厚計などのコンポーネントを搭載可能
  • 半導体工程ウェハー搬送モジュールEFEMやSEMI規格に対応可能
OWLS 半導体光学用成膜装置

  • スマートフォン(ディスプレイ)

    スマートフォン

  • LED

    LED

OWLS-1800 OWLS-3000
真空チャンバ LL室 TR室 PR室 LL室 PR室
基板ホルダ 10枚(最大12インチ) 最大φ180×L500
基板回転機構 φ1800ターンテーブル式
公転:10rpm~60rpm
スピンドル式
反応源 ICP(誘導結合プラズマ)
スパッタ源 デュアルカソード、ロータリ式
排気システム あらびきポンプ、ターボ分子ポンプ
成膜方向 水平、デポアップ、デポダウン