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光学镀膜机
Gener-1300

本装置是为减反射光学薄膜的大批量生产而设计制作的光学镀膜机。

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采用了磁流体密封技术的中心旋转式基板架,保证了薄膜产品的重复性与均匀性
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优化的排气特性和升温能力使镀膜时间缩短
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可以加装用于对应高精度AR镀膜的多层膜用可靠的光控仪 (optional)
规格
真空室 | SUS304,Ф1300mm×1500mm(H) |
基板架 | 4片式工作架(或Ф1200 mm) |
基板架转速 | 最大30rpm(可调) |
晶振式膜厚计 | XTC/3+6点式水晶传感器 |
蒸发源 | 电子枪1台 |
性能
极限真空 | 7.0 × 10-5 Pa 以下 |
抽气速度 | 10分(大气压~3.0×10-3Pa) |
基板最高加热温度 | 最高350℃ |
安装要求
安装空间 | 约4500mm(W)×6000mm(D)×3200mm(H) |
电力 | 3相,200V,50/60Hz,约80KVA |
水流量 | 100升/分以上 |
压缩空气压力 | 0.5-0.7MPa |
重量 | 约5000kg |