反应性等离子源镀膜机

RPD-1000 (ITO/AlN)

RPD系列是高性能LED膜（ITO/AlN）低成本生产可能的反应性等离子源镀膜机。

特長
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通过反应性等离子源同时实现成膜材料的蒸发及活性化
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通过最佳的能量镀制高品质的结晶膜
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与常规蒸镀相较，实现低温、低成本量产

规格

真空室 Ф1000mm×H 1165mm
基板架 Ф870 mm
基板架转速 10～30rpm
晶振式膜厚计 6点式水晶传感器
蒸发源 反应性等离子源
　

性能

达到压力 1.0E-4 Pa 以下
排气时间 20分以下（大气压～1.3×10-3 Pa以下）
　

工作条件

设备尺寸 约4000 mm (W) × 6000 mm (D)×2800 mm (H)
电源 3相＋G,200V±5%, 约75KVA
水流量 80升/分以上
空气压力 0.5 MPa - 0.7 MPa
重量 约4000 kg
　

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