イオンソース

OIS-Four

RF イオンソース

OIS-Four はイオンビームアシスト蒸着（IAD）向けに最適化した自社開発の小型かつ高性能なRF イオンソースです。ハイレートでの真空蒸着および基板クリーニングに適しています。

グリッド口径10cm と小口径ながら高電流密度・均一性を考慮した設計で弊社光学薄膜形成装置OTFC-600、OTFC-900 でのドーム全面照射が可能になりました。

これにより各種光学フィルタの試作・中規模生産、研究開発用途に最適です。

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フィラメント等の消耗品を使用するイオンソースと比較し、長寿命かつコ
ンタミが少ない

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イオン電流密度分布の均一性が高く、大電流かつφ800mm を全面
照射可能

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動作の安定性が高く、長時間運転が可能

仕様

寸法	φ 224mm ×143mm (H)
グリッドサイズ	φ 10cm（モリブデン製ディッシュ型グリッド3 枚）
ビーム電圧	100V 〜 1500V
ビーム電流	500mA (max)
Acc 電圧	100V 〜 1000V
RF パワー	600W (max)
ガス流量	25sccm 〜 35sccm（酸素） 10sccm 〜 20sccm（アルゴン）
使用圧力	5.0 ×10^-2 Pa 以下
水冷方式	RF コイルおよび本体

ニュートラライザー

寸法	φ6cm ×8cm
エミッション電流	1500mA (max）
RF パワー	150W
ガス流量	5sccm 〜 8sccm（アルゴンのみ）