离子源

OIS-GL

OIS-GL是一种用于基板清洗和离子辅助而开发的低电压大电流无栅网式离子源。

配备于Gener-1300及OTFC系列镀膜机，可生产各种光学滤光片。

特長
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适用于基板清洗或塑料基板的镀膜
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低能量、高电流，照射面积可达到φ 1200mm 以上
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最佳设计的冷却方式，大大提高了稳定性

规格

型号 OIS-GL
尺寸 φ163mm × 200mm (H)
放电电压 50V - 300V
放电电流(max) 8A
气体流量 5sccm - 50sccm（氩气）
10sccm - 100sccm（氩气）
使用压力 3.5 × 10-2 Pa 以下
水冷方式 Anode and beam unit
中和器 Tungsten (W) filament
　

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