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連続式光学薄膜形成装置
COFC-1300
本装置は３槽の連続式光学薄膜形成装置です。蒸着室を真空のままワークを出し入れし、連続生産することが可能です。
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無振動キャリア（ドーム）搬送方式を採用
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中心回転機構の採用により回転精度向上且つパーティクル発生を低減
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最高回転速度20rpmにより膜厚制御性が向上
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12点式高精度光学膜厚モニタを搭載
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最大80点式の水晶モニタを搭載可能
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RFイオンソースの搭載により膜質の高品位化
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ドーム自動装着（オプションでキャリア自動搬送も可能）、真空室追加も可能
仕様
| 真空チャンバ （三槽式） |
搬入室＋成膜室＋搬出室（搬入、搬出方式選択可） |
| 搬入、搬出真空チャンバ （２個） |
材質SUS304、約1500mm(L) × 1500mm(D)×1560mm(H) |
| 成膜室 （両側面ゲートバルブ付） |
材質SUS304、約1500mm(L) × 1500mm(D)×1560mm(H) |
| 成膜室到達圧力（無負荷） | 1.5 × 10-4 Pa 以下 |
| 連続運転中成膜到達 圧力時間 |
5 ～ 10 分以内（7.0 × 10-3 Pa） |
| 基板ドーム | φ 1200mm |
| 回転速度 | 5 ～ 20rpm |
| 蒸着源（2 式） | 電子銃（自動給材機構付） |
| RF イオンソース | 直径17cm |
所要諸元
| 所要電力 | 3 相+G、200V ± 5％、約140kVA、50/60Hz |
| 所要冷却水流量 | 200ℓ/ 分以上 3 箇所 |
| 本体重量 | 約25000kg |
