連続式光学薄膜形成装置

COFC-1300

本装置は3槽の連続式光学薄膜形成装置です。蒸着室を真空のままワークを出し入れし、連続生産することが可能です。

特長
無振動キャリア(ドーム)搬送方式を採用
中心回転機構の採用により回転精度向上且つパーティクル発生を低減
最高回転速度20rpmにより膜厚制御性が向上
12点式高精度光学膜厚モニタを搭載
最大80点式の水晶モニタを搭載可能
RFイオンソースの搭載により膜質の高品位化
ドーム自動装着(オプションでキャリア自動搬送も可能)、真空室追加も可能

仕様

真空チャンバ
(三槽式)
搬入室+成膜室+搬出室(搬入、搬出方式選択可)
搬入、搬出真空チャンバ
(2個)
材質SUS304、約1500mm(L) × 1500mm(D)×1560mm(H)
成膜室
(両側面ゲートバルブ付)
材質SUS304、約1500mm(L) × 1500mm(D)×1560mm(H)
成膜室到達圧力(無負荷) 1.5 × 10-4 Pa 以下
連続運転中成膜到達
圧力時間
5 ~ 10 分以内(7.0 × 10-3 Pa)
基板ドーム φ 1200mm
回転速度 5 ~ 20rpm
蒸着源(2 式) 電子銃(自動給材機構付)
RF イオンソース 直径17cm
 

所要諸元

所要電力 3 相+G、200V ± 5%、約140kVA、50/60Hz
所要冷却水流量 200ℓ/ 分以上 3 箇所
本体重量 約25000kg