反応性プラズマ成膜装置

RPD-1000 (ITO/AlN)

RPDシリーズは、高性能なLED 機能性膜(ITO/AlN)を低コストにて量産することができる反応性プラズマ成膜装置です。

特長
反応性プラズマ源により成膜材料の蒸発と活性化を同時に実現
適切なエネルギーにより高品質な結晶膜を形成
従来法と比べて、低温・低コストで量産可能

仕様

真空チャンバ □ 1000mm × H1165mm
基板ドーム φ 870mm
基板ドーム回転速度 10 ~ 30rpm
水晶式膜厚計 6 点ロータリーセンサ
蒸発源 反応プラズマ源
 

性能

到達圧力 1.0E-4 Pa 以下
排気時間 20 分以下( 大気圧~ 1.3 × 10-3 Pa まで)
 

所要諸元

設置寸法 約4000mm (W) × 6000mm (D)×2800mm (H)
所要電力 3 相+G、200V ± 5%、約75kVA
所要冷却水流量 80ℓ/ 分以上
所要空気圧 0.5 ~ 0.7MPa
本体重量 約4000kg