イオンソース

OIS-Four

RF イオンソース

OIS-Four はイオンビームアシスト蒸着(IAD)向けに最適化した自社開発の小型かつ高性能なRF イオンソースです。ハイレートでの真空蒸着および基板クリーニングに適しています。

グリッド口径10cm と小口径ながら高電流密度・均一性を考慮した設計で弊社光学薄膜形成装置OTFC-600、OTFC-900 でのドーム全面照射が可能になりました。

これにより各種光学フィルタの試作・中規模生産、研究開発用途に最適です。

特長
フィラメント等の消耗品を使用するイオンソースと比較し、長寿命かつコ
ンタミが少ない
イオン電流密度分布の均一性が高く、大電流かつφ800mm を全面
照射可能
動作の安定性が高く、長時間運転が可能

仕様

寸法 φ 224mm ×143mm (H)
グリッドサイズ φ 10cm(モリブデン製ディッシュ型グリッド3 枚)
ビーム電圧 100V 〜 1500V
ビーム電流 500mA (max)
Acc 電圧 100V 〜 1000V
RF パワー 600W (max)
ガス流量 25sccm 〜 35sccm(酸素)
10sccm 〜 20sccm(アルゴン)
使用圧力 5.0 ×10-2 Pa 以下
水冷方式 RF コイルおよび本体
 

ニュートラライザー

寸法 φ6cm ×8cm
エミッション電流 1500mA (max)
RF パワー 150W
ガス流量 5sccm 〜 8sccm(アルゴンのみ)