光学膜用スパッタ成膜装置

NSC-15

NSC-15 はメタル(金属)モード・スパッタリング法と高反応性プラズマ源を組み合せた量産用光学薄膜スパッタ装置です。高スループットを実現するロードロック機構を装備しています。

特長
最多4種類のターゲットの搭載可能
カソードと他のコンポーネントとの置換え可能
デュアル回転円筒型カソードによる安定した放電
高反応性プラズマ源による低吸収膜
ロードロック式基板ホルダ搬送機構

仕様

真空チャンバ LL 室: SUS304、W500mm × D800mm×H2890mm
PR 室: SUS304、φ 1650mm ×H 1200mm
基板ホルダ 13 枚~ 22 枚選択可能
基板回転機構 φ1500mm ドラム式、 10rpm ~ 100rpm(可変)
反応源 ICP(誘導結合プラズマ)
スパッタ源 デュアルカソード、ロータリ式(平板式Option)
排気システム あらびきポンプ、ターボ分子ポンプ
 

性能

到達圧力 LL 室: 10Pa
PR 室: 5.0 × 10-4 Pa 以下
排気時間 LL 室: 20 分以内(大気から1.0 × 10-1Pa まで)
PR 室: 40 分以内(大気から5.0 × 10-3Pa まで)
設定基板加熱温度 150℃(オプション)
 

所要諸元

設置寸法 5800 (W) × 7700mm (D) × 3200mm (H)
所要電力 3 相+G、380V ± 10%、130kVA、50/60Hz
所要冷却水流量 180ℓ/min 以上
所要空気圧 0.5 ~ 0.7MPa
本体重量 約13000kg