イオンアシスト蒸着装置

Gener-1300

本装置は反射防止膜を大量生産するために設計製作された光学薄膜形成装置です。

特長
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ドーム回転は磁気シール駆動による中心回転方式で安定且つ均一膜分布がえられます
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排気特性および昇温能力が向上し成膜タクトタイムが短縮
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光学モニタシステム、DC イオンソース、および抵抗加熱蒸発源をオプションで搭載可能

仕様

真空チャンバ SUS304, φ1300mm×1500mm (H)
基板ドーム 4分割式ドーム（又は約φ1200mm）
基板ドーム回転速度 max 30 rpm（ 可変）
水晶式膜厚計 XTC/3 ＋ 6 点ロータリーセンサ
蒸発源 電子銃1基
　

性能

到達圧力 7.0 × 10-5 Pa 以下
排気時間 10 分以下（大気圧〜 3.0 × 10-3 Pa まで）
基板加熱設定温度 max 350℃　
　

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