汎用型光学薄膜装置

Gener-2350

本装置は防汚膜(AS)、反射防止膜(AR)だけでなく、両者を組み合せた成膜(AR+AS)に特化した大型光学薄膜形成装置です。

特長
ドーム回転は磁気シール駆動による中心回転方式で安定且つ均一膜分布がえられます。
RFイオンソースの搭載により、膜の耐摩擦性が向上。
(4万回以上の摩擦試験クリア※)
※摩擦試験の規格により、摩擦回数は異なることがあります。
防汚膜(AS 膜)を大量生産する事が可能。

仕様

真空チャンバ φ2350mm × H1400mm
基板ドーム φ 2200mm, 5 分割式
基板ドーム回転速度 20rpm
水晶式膜厚計 6点式水晶モニタ
蒸発源 電子銃1基、可動式AS源
イオンソース RFイオンソース
 

性能

到達圧力 7.0E-5Pa以下
排気時間 15分以下(大気圧~ 2.0 × 10-3Pa まで)
 

所要諸元

設置寸法 約6300 (W) × 9000 (D) ×4000mm (H)
所要電力 3相、200V、50/60Hz、約80kVA
所要冷却水流量 220ℓ / 分以上
所要空気圧 0.5 ~ 0.7MPa
本体重量 約12000kg