光学薄膜形成装置

OTFC-1100

OTFCシリーズはエッジフィルタ、帯域フィルタ、ARコーティング等のシフトレス光学フィルタを安定生産するためのイオンビームアシスト蒸着(IAD)式高性能光学薄膜形成装置です。

特長
チャンバーサイズ:φ600mm - φ1800mm
60点/80点式高精度光学膜厚計で光学膜厚を測定・制御。
RFイオンソースは大面積かつ均一な分布と高電流密度を実現、ハイレートでの成膜が可能。
電子銃2基を搭載し、多点るつぼとアニュラーハースにより100層を超える積層が可能。
自動蒸着制御システムによるプロセスの全自動化。
基板ドームは中心回転式または遊星回転式かどちらかを選択可能。
排気系は拡散ポンプ+ポリコールドまたはクライオポンプかの選択が可能。

仕様

型番 OTFC-1100CBI/DBI
真空チャンバ SUS304, φ1100mm×1520mm (H)
基板ドーム φ 950mm
基板ドーム回転速度 10 rpm ~ 50 rpm( 可変)
光学膜厚制御システム HOM2-R-VIS350A 型光学モニタ
波長範囲: 350nm to 1100nm
反射式/ 透過式
水晶式膜厚計 XTC/3 +6 点ロータリーセンサ
蒸発源 電子銃2 基
イオンソース 17 cm RF イオンソース
排気システム あらびきポンプ+ 拡散ポンプ2 基+ ポリコールド
あるいはクライオポンプ2 基 + クライオトラップ
 

性能

到達圧力 7.0×10-5 Pa 以下
排気時間 15 分(大気圧〜 1.3×10-3Pa まで)
基板ヒータ設定温度 最高:350℃
 

所要諸元

設置寸法 約5000mm (W)×6000mm (D)×3300mm (H)
所要電力 3 相, 200V, 50/60Hz, 約100kVA
所要冷却水流量 120ℓ/ 分以上
所要空気圧 0.5MPa 以上
本体重量 約7200kg