イオンアシスト蒸着装置

OTFC-1550

OTFCシリーズはエッジフィルタ、帯域フィルタ、ARコーティング等のシフトレス光学フィルタを安定生産するためのイオンビームアシスト蒸着(IAD)式高性能光学薄膜形成装置です。

特長
チャンバーサイズ:φ600mm - φ1800mm
60点/80点式高精度光学膜厚計で光学膜厚を測定・制御。
RFイオンソースは大面積かつ均一な分布と高電流密度を実現、ハイレートでの成膜が可能。
電子銃2基を搭載し、多点るつぼとアニュラーハースにより100層を超える積層が可能。
自動蒸着制御システムによるプロセスの全自動化。
基板ドームは中心回転式または遊星回転式かどちらかを選択可能。
排気系は拡散ポンプ+ポリコールドまたはクライオポンプかの選択が可能。

仕様

型番 OTFC-1550CBI/DBI
真空チャンバ SUS304, φ1550mm×1800mm (H)
基板ドーム φ1400mm
基板ドーム回転速度 10 rpm~ 30 rpm(可変)
光学膜厚制御システム HOM2-R-VIS350A 型光学モニタ
波長範囲: 350nm to 1100nm
反射式/ 透過式
水晶式膜厚計 XTC/3 + 6 点ロータリーセンサ
蒸発源 電子銃2 基
イオンソース 17 cm RF イオンソース
排気システム あらびきポンプ + 拡散ポンプ2 基 + ポリコールド
あるいはクライオポンプ2基+ クライオトラップ
 

性能

到達圧力 7.0×10-5 Pa 以下
排気時間 15 分(大気圧〜 1.3×10-3Pa まで)
基板ヒータ設定温度 最高:350℃
 

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